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反轉(zhuǎn)真空烘箱 圖像反轉(zhuǎn)氨氣爐用于鈑金加熱、淬火、退火、焊接等工藝；在電子制造業(yè)中，可以用于半導(dǎo)體器件制造中的退火和腐蝕等工藝；在航空航天制造業(yè)中，可以用于航空發(fā)動(dòng)機(jī)和航天器材料的熱處理等。

真空烤箱 可程式真空箱 自動(dòng)真空烘箱專為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質(zhì)而設(shè)計(jì)，能夠向內(nèi)部充入惰性氣體，特別是一些成分復(fù)雜的物品也能進(jìn)行快速干燥。

真空無氧化烤箱（BCB厭氧固化烤烘箱）是將涂敷BCB或PI的襯底放入真空無氧烘箱中，通入N2→真空置換后，采用多級(jí)升溫保溫的方式，在規(guī)定的時(shí)間從室溫升至第一溫度階段，并在該溫度段保溫1-2h，再在規(guī)定的時(shí)間從第一溫度升至第二溫度階段，并在該溫度段保溫一定的時(shí)間；隨后增通過輔助的降溫系統(tǒng)（水冷和風(fēng)冷），將退火爐的溫度降至80度左右，完成固化。

小型蒸發(fā)鍍膜儀，實(shí)驗(yàn)室氣相沉積設(shè)備 用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜，主要用于蒸鍍電極及有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能研究實(shí)驗(yàn)研究 。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發(fā)。

抗粘 劑氣相涂布烘箱，抗粘劑 氣相沉積系統(tǒng)主要用于納米壓印光刻（NIL）應(yīng)用，防粘涂層的制備，可用于光刻工藝中硅烷涂膠；以及功率半導(dǎo)體,LED,MEMS,半導(dǎo)體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。